RTR 25DE/15DE 双面卷对卷直写光刻系列
业界领先的卷对卷双面直写光刻解决方案，引领高精度引线框架制造。双面同时曝光设计保证双面图案高度一致性和对准精度。该系统采用DMD技术，通过高精度的资料解析能力，最小可实现25μm精细线路及优异的线宽一致性和边缘粗糙度，在保证高品质的同时，可降低整体运行成本。
产品特点
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无掩模直写曝光
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自动纠偏
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双面同时曝光
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气动涨紧上料
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适应多种尺寸规格需求
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支持多种数据格式（GDSⅡ/Gerber/ODB++）
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